《表2 TiAlN/AlON纳米多层涂层硬度与AlON厚度的关系Tab.2 Relationship between hardnesses of TiAlN/AlON nanomultilayers

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《TiAlN/AlON纳米多层涂层组织及性能研究》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

由上述分析可知，硬度值增加与纳米多层涂层结构有关，调制周期低于3.08nm时，AlON层晶化并与TiAlN层共格外延生长，使得纳米多层涂层硬度增高[10-20].目前文献中对这种超硬现象的解释有:Hall-Petch理论[10，19]、Koehler模量差理论[1]和交变应力场理论[10，19]等.根据上述理论，两种不同弹性模量的薄膜材料TiAlN和AlON，在AlON层厚度低于0.81nm时（调制周期λ低于调制周期3.08nm时），沉积多层膜过程中位错将穿过TiAlN层和AlON层形成共格外延生长的晶体界面.当位错穿过层间材料时，晶体界面阻碍位错的运动，导致TiAlN/AlON纳米多层涂层的硬度显著升高.但是当调制周期λ大于临界调制周期时，因为晶体界面的阻碍作用，位错将不能穿透AlON层生长，因此破坏了TiAlN层和AlON层共格外延生长结构，其硬度随之下降.