《表1 TiN、ZrN薄膜的沉积工艺参数》

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《不锈钢根管锉镀覆TiN、ZrN膜的沉积工艺与性能研究》

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在真空室的本底真空为3.3×10–3 Pa、温度为200℃时，开始通入氩气，氩气流量为32 mL/min，此时镀膜室气压为2.0×10–1 Pa，进行溅射清洗20 min，溅射电流为2.5 A，基片偏压为–600 V；然后将偏压调至工作偏压（见表1），制备过渡层，过渡层沉积时间为20 min，其中，前10 min进行纯钛或纯锆的沉积，后10 min通入少量氮气（流量为4 mL/min）；最后阶段调整氮气流量为7 mL/min，同时改变沉积时间、偏压和占空比进行TiN、ZrN薄膜的沉积，如表1所示。