《表1 沉积工艺参数对光学薄膜材料的影响（k<10-4)[16]》

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《PECVD技术制备光学薄膜的研究进展》

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为满足薄膜的光学应用特性，必须要获得薄膜光学常数稳定、制造精确度高的PECVD制备工艺。国内外学者对此进行了大量的研究，目前仍在不断探索中。按薄膜材料的折射率可将薄膜大致分为三类，第一类是折射率n≤1.46的掺F氧化物薄膜，即低折射率薄膜，典型代表为SiOxFy；第二类是1.46