《表1 不同薄膜的沉积工艺参数》

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《铝、硅元素添加对TiN基薄膜组织和性能的影响》

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基体材料为市场销售的W6Mo5Cr4V2高速钢。利用电火花切割设备在基体材料上截取尺寸为15mm×15 mm×5 mm的试样进行1 220℃淬火+560℃二次回火处理，采用不同粒度的金相砂纸和抛光机进行磨抛，再放入丙酮和酒精中分别超声清洗15min后烘干，置于离子镀反应炉腔体内的样品台架上。采用空心阴极与多弧离子镀复合镀膜机在试样表面沉积TiN、Ti-Al-N和Ti-Si-N 3种薄膜。Ti-Al-N和Ti-Si-N薄膜的沉积工艺参数如表1所示（TiN薄膜的沉积工艺参数与Ti-Al-N薄膜的相同），靶材分别为纯钛靶、50Ti-Al（质量分数/%，下同）合金靶及85Ti-Si合金靶。