《表1 DLC薄膜的沉积参数》

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《工作压强对PECVD法制备DLC薄膜微观结构与力学性能的影响》

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采用PECVD技术，利用纯度达到99.99%的氩气和乙炔作为工作气体，并增加了可提高等离子体密度的网笼束缚结构制备DLC薄膜，沉积参数见表1。选用316L奥氏体不锈钢作为试验基体材料，切割成30 mm×8 mm的圆片。为保证基体与薄膜具有较好的结合强度，所有基体均进行打磨和表面抛光处理，并用无水酒精溶液超声波清洗20 min，氮气吹干后放置于真空腔体的网笼内，通入氩气对基体表面进行溅射清洗30 min。通入流量比为1∶3的氩气和乙炔，开始沉积薄膜。