《表1 DLC薄膜的沉积参数》

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《类金刚石薄膜在腐蚀介质中的摩擦磨损行为研究》

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采用非平衡直流磁控溅射设备（UPD 650）在304不锈钢（30 mm×30 mm×2 mm）和单晶硅（100）基底上沉积DLC薄膜，其中硅片用于测试薄膜的表面形貌和横截面结构，不锈钢片用于测试薄膜的力学性能、摩擦学性能和耐腐蚀性能。首先将试片分别用丙酮、无水乙醇超声清洗15 min后擦干，装夹在正对溅射靶材的样品架上，再将真空抽至3.0×10-5 Torr以下，通入30 mL/min的高纯Ar气，开启脉冲直流电源，在-500 V高偏压下进行轰击刻蚀30 min，以去除样品表面污染物和氧化层，并形成有利于DLC薄膜生长的亚表面微观结构。接着将Ar气流量降至16 mL/min，在-100 V偏压下溅射高纯Cr靶300 s，沉积过渡层，以提高膜-基结合力。最后，Cr靶电流逐渐降低至0 A，石墨靶电流逐渐升高至3.5 A，沉积DLC薄膜。具体沉积参数如表1所示。用分析级氢氧化钠固体、氯化钠固体、硫酸液体三种化学药品配制1 mol/L NaOH溶液、3.5%NaCl溶液和1 mol/L H2SO4溶液。