《表1 Ni-TiN纳米镀层脉冲电沉积制备工艺参数》

《表1 Ni-TiN纳米镀层脉冲电沉积制备工艺参数》   提示:宽带有限、当前游客访问压缩模式
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《基于BP神经网络的脉冲电沉积Ni-TiN纳米镀层腐蚀行为预测研究》


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阴极材料选用A3钢,尺寸为50 mm×50 mm×6mm;阳极材料选用纯镍板,质量分数大于99.9%。采用脉冲电沉积方法在A3钢表面制备Ni-TiN纳米镀层,用北京时代山峰科技有限公司的超声波测厚仪(TT190A)进行测量,其厚度为(80~100)μm。TiN粒子(平均粒径约为30 nm)购自大庆通达科技股份有限公司,微观形态特征,如图1所示。图2为脉冲电沉积试验装置示意图。装置包括脉冲电源、电镀槽和加热装置等。在电沉积前,将金属基体表面进行机械抛光,使表面粗糙度达到0.15μm,清洗去除基体表面杂质后,在混合酸性溶液中进行20 s的活化,用蒸馏水和酒精冲洗干净。镀液成分的质量浓度为320 g/L硫酸镍,40 g/L氯化镍,25 g/L硼酸,(2~10) g/L TiN纳米粒子。镀液温度为50℃,pH值为4.6,脉冲电沉积时间为60min,脉冲电沉积Ni-TiN纳米镀层制备的工艺参数,如表1所示。