《表3 正交实验结果表：甲磺酸盐体系下光亮锡镀层的电沉积制备》

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《甲磺酸盐体系下光亮锡镀层的电沉积制备》

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由表3正交实验结果可知，对镀层光亮度影响程度由大到小为B>D>C>A，即Sn2+浓度影响最小，而MSA影响程度最大，光亮锡最佳工艺组合为A2B2C1D3，即镀液组成和工艺为:Sn（CH3SO3）2:52 g/L，MSA（70%）:140 g/L，光亮剂Z81:5 ml/L，电流密度:2 A/dm2，在上述条件下制得Sn镀层的SEM图见图1，其XRD测试结果见图2。