《表1 TiN/Ni纳米复合膜沉积参数》

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《N_2流量对反应共溅射TiN/Ni纳米复合膜结构和结合强度的影响》

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实验中的基体选用尺寸为15mm×15mm的p-Si（100）和304不锈钢基体。硅片基体上沉积的薄膜用于表面、断面形貌观察和XPS分析，不锈钢上薄膜用于XRD和划痕试验测试。不锈钢基体表面先经砂纸逐级研磨后用1μm金刚石研磨膏仔细抛光，然后用丙酮和酒精依次超声波清洗除油，冷风吹干后装入真空室准备镀膜。磁控溅射设备采用中科院沈阳科学仪器有限公司生产的JGP450三靶磁控溅射镀膜系统，靶材为Φ60mm×4mm的高纯Ti靶（99.99%）和高纯Ni靶（99.99%）。开始溅射前，先将本底压强抽到6.0×10-4Pa，然后通入高纯氩气（99.999%）和氮气（99.999%），采用反应磁控共溅射方法沉积TiN/Ni纳米复合膜，所用具体沉积参数如表1所示。