《表1 ALD沉积氧化铝纳米管一个循环的参数》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《原子层沉积Al_2O_3纳米管弯曲模量的原位研究》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

图2为Al2O3纳米管的制备流程，用聚碳酸酯（PC）径迹刻蚀多孔薄膜作为模板，首先进行基底预处理:将PC多孔模板紫外照射2 min或Piranha溶液处理30 min，然后在PC模板上沉积氧化铝。将处理过的PC多孔薄膜放入ALD反应腔中，反应腔室的温度设定为110℃，基片台温度为120℃，调整控制面板中的实验参数，如表1所示。