《表1 磁控溅射钽涂层工艺参数》

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《磁控溅射快速沉积钽涂层的组织及性能》

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本文作者研究了磁控溅射工艺如靶材与基体关系、靶基间距、基材温度以及沉积电流等对钽涂层沉积速率、结构、应力和硬度等的影响，其他工艺参数，如沉积电压、沉积时间、真空度、Ar气压力均相同，采用的工艺参数如表1所示。