《表2 钽涂层厚度：磁控溅射快速沉积钽涂层的组织及性能》

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《磁控溅射快速沉积钽涂层的组织及性能》

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图1为通过光学显微镜观察到的磁控溅射制备的不同厚度钽涂层的截面形貌。磁控溅射的钽涂层，致密、均匀，无明显的贯穿裂纹及孔隙，与基体表面结合良好。表2为采用光镜法测量的钽涂层的厚度。制备的五种钽涂层的基体温度、靶间距、靶与基体关系以及沉积电源功率不同。基体加热是为了提高钽涂层与基体结合强度和改变钽涂层的晶体结构，对涂层沉积速率无影响。因此，影响钽涂层沉积速率的主要因素为靶间距、靶与基体关系以及沉积电源参数。