《表2 拉曼光谱结果:石墨靶溅射时间对Ta-C涂层性能的影响》

《表2 拉曼光谱结果:石墨靶溅射时间对Ta-C涂层性能的影响》   提示:宽带有限、当前游客访问压缩模式
本系列图表出处文件名:随高清版一同展现
《石墨靶溅射时间对Ta-C涂层性能的影响》


  1. 获取 高清版本忘记账户?点击这里登录
  1. 下载图表忘记账户?点击这里登录

为了进一步验证石墨靶溅射时间从40 min到80 min制备的Ta-C涂层中sp3含量的变化,对拉曼光谱图进行拟合之后高斯分峰,分出D峰和G峰。高斯分峰之后得溅射时间40 min到80 min制备的Ta-C涂层的D峰位置、G峰位置、D峰半峰宽数值、G峰半峰宽数值以及I(D)/I(G)的比值如表2所示。从表可见,D峰位置在1390 cm-1左右浮动,G峰位置在1560 cm-1左右浮动,证明拟合、高斯分峰得到的数据具有有效性。