《表2 拉曼光谱结果:石墨靶溅射时间对Ta-C涂层性能的影响》
为了进一步验证石墨靶溅射时间从40 min到80 min制备的Ta-C涂层中sp3含量的变化,对拉曼光谱图进行拟合之后高斯分峰,分出D峰和G峰。高斯分峰之后得溅射时间40 min到80 min制备的Ta-C涂层的D峰位置、G峰位置、D峰半峰宽数值、G峰半峰宽数值以及I(D)/I(G)的比值如表2所示。从表可见,D峰位置在1390 cm-1左右浮动,G峰位置在1560 cm-1左右浮动,证明拟合、高斯分峰得到的数据具有有效性。
图表编号 | XD0076683100 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.06.01 |
作者 | 黄彪、张而耕、周琼、陈永康 |
绘制单位 | 上海应用技术大学上海物理气相沉积(PVD)超硬涂层及装备工程技术研究中心、上海应用技术大学上海物理气相沉积(PVD)超硬涂层及装备工程技术研究中心、上海应用技术大学上海物理气相沉积(PVD)超硬涂层及装备工程技术研究中心、上海应用技术大学上海物理气相沉积(PVD)超硬涂层及装备工程技术研究中心 |
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