《表1 典型样品的溅射工艺参数》

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《自旋阀多层膜磁化翻转场的调控和磁电阻特性》

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实验中使用的靶材有CoFe（99.95%，质量分数，下同）、Fe（99.99%）、IrMn（99.95%）、Ta（99.95%）和Au（99.99%）；工作气体为高纯氩气（99.999%），气流量为20 sccm，溅射压强约为0.5 Pa，靶基距为10 cm。溅射前先将本底抽真空到1×10-5 Pa以下，然后接通工作气体。在溅射过程中通过改变每一种材料的溅射时间来控制各层薄膜的厚度，从而调控自旋阀多层膜的性能。典型的自旋阀多层膜样品的制备参数，列于表1。为了引入参考场，将样品放入真空磁性退火炉中进行加磁场退火，退火温度约280℃，保温时间约30 min，自然冷却。