《表1 不同Cu含量掺杂的TNT的溅射参数》

《表1 不同Cu含量掺杂的TNT的溅射参数》   提示:宽带有限、当前游客访问压缩模式
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《铜掺杂TiO_2纳米管阵列薄膜的制备及表征》


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称取0.74 g氟化铵,再量取98 mL乙二醇和2 mL去离子水配置成电解溶液,以试样为工作电极,以铂片为负电极,在常温下(25℃)对试样进行阳极氧化处理。阳极氧化过程中,工作电极与铂极之间的距离为2 cm。阳极氧化电压为30 V,氧化时间为45 min,Ti-Cu薄膜进行阳极氧化得到Cu-TNT。阳极氧化结束后,在去离子水中超声清洗Cu-TNT,去除表面残留电解液,在室温下干燥。最后将制备好的试样置于电阻炉中进行热处理,在空气中以2℃·min-1的升温速率升到450℃保温2 h,之后炉冷。最终得到不同Cu含量掺杂的TiO2纳米管试样。试样参数如表1所示。