《表1 沉粉工艺和传统工艺样品典型光电参数》
测量时随机选择沉粉工艺和传统涂覆工艺的样品各3组,工作电流从20 mA开始增加,每隔20mA测量一组数据,直到光通量出现饱和效应(光通量不再随电流增加而增加),测量参数包括色温、色坐标、光通量、发光效率和工作电压等。分别对两种工艺下的3组样品测量数据采用算术平均,以有效避免样品个体差异对实验结果带来的影响。表1是两种样品的测量结果,从表中可以看出,两种样品的色坐标非常接近,表中没有列出的色温、显色指数也几乎相同,实验中也发现两种样品的色坐标随电流的变化规律相同,且差别不大,在这种情况下比较二者发光效率的差异具有实际意义。
图表编号 | XD0028226700 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.02.01 |
作者 | 李炳乾、罗明浩、俞理云、夏正浩、陈岩 |
绘制单位 | 五邑大学应用物理与材料学院、中山市光圣半导体科技有限责任公司、中山市光圣半导体科技有限责任公司、中山市光圣半导体科技有限责任公司、五邑大学应用物理与材料学院 |
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