《表3 低阻产品溅射工艺》
当镀膜速度为3 m/min时,根据膜层溅射速率,计算溅射所需功率依次为17.9 k W、50.98k W、20.5 k W,为此,合理分配靶位,将设备###1靶位用于Si N溅射,2~4靶位用于Si O溅射,3 4 2##5~6靶位用于ITO溅射,实验工艺参数见表3。
图表编号 | XD00129647600 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.03.25 |
作者 | 刘月豹、巩燕龙、郑琦林、高峰 |
绘制单位 | 安徽方兴光电新材料科技有限公司、安徽方兴光电新材料科技有限公司、安徽方兴光电新材料科技有限公司、安徽方兴光电新材料科技有限公司 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |