《表1 Al OxNy薄膜溅射参数》

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《氮氧比对AlO_xN_y薄膜结构和光学性能的影响》

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溅射离子源通5.00 SCCM氩气，起辉后，能量为2700 e V的氩离子溅射Al靶（纯度≥99.999%），束流为100 m A。溅射源与靶材成45°。辅助离子束能量为200 e V，束流为50 m A。辅助源与样品台成45°。沉积过程中，辅助离子源添加中和灯丝将离子中和为原子，从而避免薄膜表面的电荷堆积。沉积时间为30min。氮气+氧气的总流量不变，氮气和氧气的流量和相应的氮氧比列于表1。