《表2 不同溅射功率下所制Al–Mg–B薄膜的粗糙度》

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《射频磁控溅射非晶Al–Mg–B薄膜的制备及性能》

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从图3和表2可见，随着溅射功率增大，薄膜表面粒子的尺寸均匀性趋于变好，表面粗糙度逐渐减小。这是由于在室温沉积时，较低的温度限制了沉积粒子的热运动和扩散。只有通过提高溅射功率来增加溅射能量和靶面起辉面积，使溅射均匀性提高，从而提高了薄膜的均匀性和平整度。