《表4 不同氧化条件和退火后Mg-Al复合氧化物薄膜粗糙度Tab.4 Surface roughness of the Mg-Al oxide films anodized in different
合金薄膜经氧化之后,形貌有变化,如图5所示。对比氧化前后的SEM图可知,合金薄膜经过阳极氧化后,晶粒由棱角分明变得圆滑,即氧化膜比合金薄膜更为平整。这一方面是因为溶液具有微弱的碱性,在焦耳热作用下,对薄膜有轻微的腐蚀,另一方面是因为晶粒棱角的表面积较小,使得电流密度较大[6],局部合金的反应更快,同时,大的电流密度会产生更多的焦耳热[7],使得局部温度升高,加速局部薄膜的溶解[8]。经AFM测试,不同氧化条件和退火后薄膜的粗糙度如表4所示,从中可知恒流3mA、恒压85V的氧化条件下薄膜粗糙度最小,经过退火后薄膜粗糙度有小幅的下降。
图表编号 | XD0019704600 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.03.30 |
作者 | 杨耀杰、杨俊华、谭晓婉、李俊峰、李庆青、偰正才 |
绘制单位 | 深圳大学光电工程学院电子器件与系统(教育部、广东省)重点实验室、深圳大学光电工程学院电子器件与系统(教育部、广东省)重点实验室、深圳技术大学新材料与新能源学院、深圳大学光电工程学院电子器件与系统(教育部、广东省)重点实验室、深圳大学光电工程学院电子器件与系统(教育部、广东省)重点实验室、深圳技术大学新材料与新能源学院、深圳大学光电工程学院电子器件与系统(教育部、广东省)重点实验室、深圳大学光电工程学院电子器件与系统(教育部、广东省)重点实验室、深圳技术大学新材料与新能源学院 |
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