《表2 薄膜经过氧化、退火之后镁铝比例的变化Tab.2 The Mg/Al atomic ratio of the film after anodic oxidation and thermal an

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《阳极氧化法制备Mg-Al复合氧化物绝缘层的研究》

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双源电子束蒸发蒸镀的合金薄膜的EDS如图3所示，Mg、Al原子比比值为0.39。之后通过改变恒流恒压的条件对合金薄膜进行阳极氧化，为了探究薄膜的绝缘性能，将氧化薄膜退火，作为对比。薄膜经氧化、退火后的元素比例如表2、表3所示，从表2可知，氧化之后薄膜Mg、Al比例均比合金薄膜的比例（0.39）小，比值稍有下降，与文献[5~7]描述的现象相同。其原因之一是Mg2+迁移速度比Al 3+要快[5]，导致阳极氧化过程中Mg更多的流失到电解液中，原因之二是由于薄膜上Mg原子的附着力小，在电流焦耳热以及弱碱性溶液的作用下比Al更容易溶解。氧化膜原子比Mg和Al的比值经过退火下降，同样可用Mg的附着力差来解释，小的附着力使得Mg比Al更容易在高温的环境中挥发出来。表3给出了氧化、退火之后氧化膜氧含量的变化，薄膜在阳极氧化之前，在空气中会被轻微氧化，氧含量一般在10%以下，氧化之后氧含量提升到百分之四十几，并且退火后氧含量无明显提升，说明薄膜在阳极氧化阶段已被充分的氧化，氧空位缺陷相对较少。