《表1 不同退火温度下薄膜的均方根粗糙度值Tab.1 The root-mean-square roughness of the films at different annealing temper

《表1 不同退火温度下薄膜的均方根粗糙度值Tab.1 The root-mean-square roughness of the films at different annealing temper   提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式
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《退火温度对电子束沉积Ag/TiO_2薄膜光学性质和光催化性能的影响》


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由表1和图6可以看出:随着退火温度的升高，小晶粒逐步聚集成大晶粒，薄膜呈岛状，导致Ag/TiO2薄膜的表面粗糙度增大[7，15，21~25]。

图表编号XD0020027600    严禁用于非法目的
绘制时间2018.09.15
作者郝殿中、张霞、韩培高、牛明生
绘制单位曲阜师范大学激光研究所山东省激光偏光与信息技术重点实验室、曲阜师范大学激光研究所山东省激光偏光与信息技术重点实验室、曲阜师范大学激光研究所山东省激光偏光与信息技术重点实验室、曲阜师范大学激光研究所山东省激光偏光与信息技术重点实验室
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