《表1 不同浓度溶液制备的薄膜表面粗糙度和厚度Tab.1 Surface roughness and thickness of film prepared by different solution
WO3是一种n型金属氧化物半导体[24],接在阴极时电子在薄膜聚集,同时非晶态薄膜为Li+注入提供良好的结构基础,电子、WO3和Li+发生氧化还原反应生成蓝色的LixWO3[25]。物质的光吸收与材料的厚度和光吸收系数有关,初始态和褪色态薄膜的光吸收系数低,因此厚度对透射率影响较小;着色态薄膜光吸收系数增大,此时厚度成为主导薄膜透射率变化的主要因素,因此薄膜越厚,透射率越低。
图表编号 | XD0030821700 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.02.01 |
作者 | 张观广、倪浩智、张啸尘、黄致维、陶瑞强、姚日晖、宁洪龙、彭俊彪 |
绘制单位 | 华南理工大学材料科学与工程学院高分子光电材料与器件研究所发光材料与器件国家重点实验室、华南理工大学材料科学与工程学院高分子光电材料与器件研究所发光材料与器件国家重点实验室、华南理工大学材料科学与工程学院高分子光电材料与器件研究所发光材料与器件国家重点实验室、华南理工大学材料科学与工程学院高分子光电材料与器件研究所发光材料与器件国家重点实验室、华南理工大学材料科学与工程学院高分子光电材料与器件研究所发光材料与器件国家重点实验室、华南理工大学材料科学与工程学院高分子光电材料与器件研究所发光材料与器件国家重点实 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |
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