《表2 不同溶胶体系制备的薄膜的临界厚度、收缩率、和体积孔隙率[21]Tab.2 Critical thickness, shrinkage and volume porosity of the fi
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《TiSiO非晶结构光学薄膜的性能调控机理研究进展》
BRUSATIN G等[21]使用甲基三乙氧基硅烷(MTES)、四乙氧基硅烷(TEOS)和四丁氧基钛酸酯(TiBOT),制备了不同的酸催化TiO2-SiO2溶胶,并且研究了其对TiSiO光学薄膜结构和性能的影响。发现薄膜都是非晶结构,但由不同溶胶制备的光学薄膜的临界厚度、收缩率和体积孔隙率有较大区别,结果如表2所示。这说明在提供Si元素的两种物质中,使用TEOS比使用MTES更易获得更薄且收缩率更小的薄膜。同时研究发现,薄膜的折射率实际上与薄膜的Si/Ti原子比和致密性密切相关,在500℃空气中退火1 h的条件下,由不同溶胶制备的光学薄膜的Si/Ti原子比、密度和折射率近似相等,其中折射率(在入射光波长为633 nm处)是1.60。该研究使用三种物质作为前驱体,采用不同的组合方式,配制出了三种不同的溶胶,对比了提供Si的两种硅烷对薄膜结构和性能的影响,这对选择合适的物质来提供Si和Ti,以使薄膜的综合性能更好具有启发意义。
图表编号 | XD004146700 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2018.12.20 |
作者 | 李大玉、代书雨、张燕军、张徐、张章 |
绘制单位 | 扬州大学机械工程学院、扬州大学机械工程学院、扬州大学机械工程学院、扬州大学机械工程学院、扬州大学机械工程学院 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |
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