《表3 等离子体处理前后芳III纤维的表面粗糙度Table 3 Surface roughness of DAFIII before and after plasma treatment》

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《氧等离子体处理对国产芳III纤维表面性能的影响》

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Rq:root mean-square roughness；Ra:arithmetic mean roughness

使用扫描电子显微镜和原子力显微镜分别观察了芳III经等离子体处理前后表面形貌的变化，其结果分别如图4和图5所示。参照参考文献[17]计算表面粗糙度，其结果列于表3。从图4可见，未经等离子体处理的芳III纤维表面沿着纤维径向分布着一些浅显的沟槽，是纤维在拉丝过程中自然形成的。经过等离子体处理后纤维表面的沟槽数量明显增多，且沟槽的深度有明显增加。其原因是，纤维在等离子体处理过程中产生了刻蚀效应。从图5的微区形貌也可以看出，未经处理的纤维表面非常光滑，经过等离子处理之后纤维表面出现了一些起伏。纤维表面的粗糙度值Rq和Ra由未处理时的46.5 nm和42.3 nm分别增加到60.9 nm和51.2 nm。这些结果表明，氧等离子对纤维表面不仅有化学作用还产生了明显的物理效应。这些效果，有利于提高复合材料中纤维与树脂基体的粘结性能[3，17]。