《表1 不同质量银纳米颗粒掺杂的叠层薄膜表面粗糙度均方根值》

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ITO/Ag NPs/MoO3叠层薄膜的AFM图像如图3所示。其中图3(a)为未掺杂银纳米颗粒的MoO3薄膜的3D形貌图,图3(b)~图3(e)分别是蒸镀0.05 mg、1 mg、2 mg和3 mg银退火再蒸镀MoO3薄膜的3D形貌图,相应的表面粗糙度均方根(RMS)值汇总如表1所示。由于MoO3薄膜采用真空热蒸发法制备,薄膜表面并不平整,其RMS值为3.42 nm。银纳米颗粒掺杂使得RMS值增大,说明银纳米颗粒的掺杂对MoO3薄膜表面的粗糙度产生一定的影响。掺杂0.05 mg的银纳米颗粒时,由于银纳米颗粒尺寸较小且分布稀疏,MoO3薄膜覆盖在银纳米颗粒上时,对薄膜表面粗糙度的影响较小,RMS值为3.57 nm。掺杂1 mg银纳米颗粒时,银纳米颗粒的尺寸增大,平均高度增大,对于MoO3薄膜的形态影响增大,RMS值达到3.89 nm。当掺杂质量分别为2 mg和3 mg时,虽然银纳米颗粒的尺寸增大,但由于银纳米颗粒分布变得密集,MoO3表面变得平缓,RMS分别降至3.53 nm和3.58 nm。