《表1 磁控溅射实验参数》

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《脉冲磁控溅射MoS_2涂层的组织结构及摩擦学性能》

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将真空抽至5.0×10-3 Pa，通入氩气（纯度为99.999%）采用霍尔离子源溅射清洗基底20 min，后调节Ar气使工作气压维持在0.15 Pa，并在样品表面沉积6 min左右的MoS2过渡层，以增强膜基结合力，在制备涂层时溅射功率保持在2.5 kW，基底与靶之间施加50 V直流偏压，100，300，600，800 V脉冲偏压及15%脉冲占空比。样品编号和对应的参数见表1。