《表2 离子束溅射沉积镀膜实验参数》
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在离子束溅射沉积过程中离子源的稳定性是加工工艺的前提，经过多次实验不断修正确定一组离子源参数，见表2.
| 图表编号 | XD0032841900 严禁用于非法目的 |
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| 绘制时间 | 2019.01.01 |
| 作者 | 冯时、付秀华、王大森、李晓静、聂凤明、张旭 |
| 绘制单位 | 长春理工大学光电工程学院、中国兵器科学研究院宁波分院、长春理工大学光电工程学院、中国兵器科学研究院宁波分院、中国兵器科学研究院宁波分院、中国兵器科学研究院宁波分院、中国兵器科学研究院宁波分院、长春理工大学电子信息工程学院 |
| 更多格式 | 高清、无水印（增值服务） |
![表1 溅射沉积、真空蒸发镀膜、离子镀膜和电化学沉积技术的特点[8,13,17-25]](http://bookimg.mtoou.info/tubiao/gif/BMJS202101009_01300.gif)
