《表3 离子束溅射沉积镀膜数据》

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《基于离子束溅射大口径光学元件平坦化层均匀性研究》

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拟合曲线见图9，其中拟合度参数和方差为0.482 2，均方根误差为0.0482 6，表明拟合度较好，从式（4）中计算得出边缘驻留时间T1为232.35ms，中心驻留时间T2为183.5ms，由拟合函数计算出的中心边缘驻留时间比为-26.65%，与迭代四次实验的结果一样.因此拟合函数适用于离子源驻留时间分布，在此基础上进行实验，采用OTFP ST50膜厚仪进行膜厚分析，理论与实验结果相符合，说明采用理论拟合的公式可以进行实验指导，能够提高实验效率.选取光学元件四周边缘以及中心位置测试膜厚，数据见表3.