《表1 溅射沉积、真空蒸发镀膜、离子镀膜和电化学沉积技术的特点[8,13,17-25]》
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综上所述，磁控溅射在制备高熵合金金属薄膜和化合物薄膜方面已经取得了很大的发展，且脉冲激光沉积和电化学沉积制备高熵合金薄膜方面仍然具有较大的发展潜力。
| 图表编号 | XD00189410200 严禁用于非法目的 |
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| 绘制时间 | 2021.01.20 |
| 作者 | 张毅勇、张志彬、姚雯、梁秀兵 |
| 绘制单位 | 四川大学空天科学与工程学院、军事科学院国防科技创新研究院、军事科学院国防科技创新研究院、军事科学院国防科技创新研究院、军事科学院国防科技创新研究院 |
| 更多格式 | 高清、无水印（增值服务） |
