《表1 固态物质源真空镀膜技术———PVD》
真空镀膜技术最终是要在零件的表面沉积一层具有特征性能的薄膜材料,膜层粒子有的来源于固体,有的来源于气体。来源于固体的技术叫物理气相沉积,简称PVD,来源于气体的技术叫化学气相沉积,简称CVD。表1、表2分别是两种镀膜技术分类表。
图表编号 | XD00229157600 严禁用于非法目的 |
---|---|
绘制时间 | 2020.09.25 |
作者 | 王福贞 |
绘制单位 | 北京联合大学 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |
真空镀膜技术最终是要在零件的表面沉积一层具有特征性能的薄膜材料,膜层粒子有的来源于固体,有的来源于气体。来源于固体的技术叫物理气相沉积,简称PVD,来源于气体的技术叫化学气相沉积,简称CVD。表1、表2分别是两种镀膜技术分类表。
图表编号 | XD00229157600 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.09.25 |
作者 | 王福贞 |
绘制单位 | 北京联合大学 |
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