《表3 计算的光舱工况和有防溅射靶工况的背溅射沉积量对比》

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《防溅射靶对离子推力器背溅射沉积污染的影响》

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计算得到的无防溅射靶背溅射沉积量速率如表3所示。由表可见光舱工况的返流沉积率为2.36×10-10 g/（cm2·s），安装防溅射分子屏的工况在推力器上的背溅射沉积污染量为2.51×10-11 g/（cm2·s），可见添加防溅射分子屏后背溅射沉积污染量可以降低近1个量级。