《表2 不同溅射功率下的膜厚和沉积速率Tab.2 Film thickness and deposition rate under different sputtering power》
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图5为溅射时间10 min时，不同溅射功率对Zn O薄膜沉积速率的影响，相关数据见表2，可以看出，Zn O的成膜速率与溅射功率成正比。
| 图表编号 | XD0016819800 严禁用于非法目的 |
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| 绘制时间 | 2018.06.05 |
| 作者 | 常鸿、许绍俊 |
| 绘制单位 | 核工业西南物理研究院、川庆钻探工程有限公司地质勘探开发研究院 |
| 更多格式 | 高清、无水印（增值服务） |
