《表1 不同工艺参数所制备的样品Tab.1 Samples prepared by different process parameters》

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《磁控溅射法制备纳米铜膜及其电学性能研究》

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本文采用ULVAC的SMD-1800V型立式磁控溅射镀膜机在玻璃基板表面沉积Cu膜，Cu靶材购买自ULVAC。本底真空度小于5.0×10-4Pa，氩气纯度为6N，购买自Air Liquid。玻璃基板购买自彩虹光电科技股份有限公司，其尺寸为1850 mm×1500 mm，厚度为0.5 mm。采用不同工艺参数所制备的样品S1~S9详见表1。