《表4 沉积速率的方差分析Table 4 ANOVA for deposition rate》
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《高熵合金AlCrNbSiTiV氮化物薄膜溅镀参数的优化》
根据表3，利用式（2）-（5）计算沉积速率的信噪比极差、离差平方和、均方及贡献率（见表4），得出影响最大的因子为溅射功率，其次是基材温度，沉积时间和基材偏压的影响较小。
| 图表编号 | XD0014509300 严禁用于非法目的 |
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| 绘制时间 | 2018.08.15 |
| 作者 | 万松峰、许春耀、张钰乾 |
| 绘制单位 | 东莞职业技术学院机电工程系、龙华科技大学机械工程系、东莞职业技术学院机电工程系 |
| 更多格式 | 高清、无水印（增值服务） |
