《表1 不同溅射功率下TiNx的电阻率Tab.1 The resistivity of TiNx film at different sputtering power》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《TiN薄膜制备方法、性能及其在OLED方面应用的研究》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

以上可知，磁控溅射生长TiNx薄膜存在三种形态:溅射功率4kw，N2流量8.5sccm时，Ti与N充分反应，得到的TiNx薄膜电阻率最低；溅射功率降低或者N2流量增加时，得到的TiNx薄膜富N，反射率降低，电阻率增加；溅射功率增加或者N2流量降低时，得到的TiNx薄膜富Ti，反射率增加，电阻率增加。