《表1 磁控溅射镀膜参数Tab.1 Magnetron sputtering coating parameters》

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《基于MIM结构与金属纳米颗粒双调制的结构色制备》

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将切好的硅片在50mL浓硫酸和双氧水（体积比为3∶1）的混合溶液中超声清洗30min，除去表面杂质，再依次利用丙酮、无水乙醇以及去离子水超声清洗15min，用氮气枪吹干后，在磁控溅射中依次镀反射金属层银（Ag，150nm），空间介质层三氧化二铝（Al2O3，23～115nm）和上层金属Au或者Ag，形成MIM结构，溅射仪器为Kurt J.Lesker PVD75，溅射前的真空度为10-3 Pa，溅射时通入氩气后，压强为1.995Pa.实验中使用的Ag、Al2O3、Au制备参数如表1所示.