《表1 射频离子源参数：基于离子束溅射大口径光学元件平坦化层均匀性研究》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《基于离子束溅射大口径光学元件平坦化层均匀性研究》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

该实验采用射频离子源，其射频感应产生的等离子体中只有单荷离子，对于屏栅的溅射较小，增加了束流的均匀性[9-10].在射频离子源中，气体进入放电室，经13.56MHz的射频功率产生的电场作用，离化后经过三栅离子光学系统，离子经过该光学系统聚焦加速形成离子束，而后必须通过中和器进行强迫中和，以防正电荷在工件表面积累.表1为实验所用离子源参数.