《表2 离子源工艺参数：深紫外全介质反射式滤光膜的研究》

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《深紫外全介质反射式滤光膜的研究》

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离子辅助沉积技术具有提高薄膜的致密性，减少金属氧化物薄膜吸收，防止膜层脱落等优点，因此被广泛应用于薄膜制备中[12].但由于深紫外波段容易产生较大的吸收，因此需要判断离子辅助沉积技术对该波段吸收的影响，在JGS1基底上分别加离子源和不加离子源镀制300nm Al2O3和AlF3，离子源工艺参数如表2，镀制完成后测得其透过率曲线如图4所示.