《表1 Cr1–xAlxN薄膜的沉积参数》

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《电弧离子镀Cr_(1–x)Al_xN硬质薄膜的成分、结构与性能》

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将ST20F超细晶硬质合金基体抛光、超声清洗后平铺在可旋转样品台上；背底真空为3×10–3 Pa，基片预热温度为200℃；然后启动脉冲偏压引发Ar的辉光等离子体进行30 min的溅射清洗以去除表面污物；在正式镀膜之前，沉积20 min的Cr/CrN过渡层以提高膜基结合力；镀膜过程中保持N2流量不变，通过调节Ar气流量使腔室总工作气压稳定在0.8 Pa；在每一炉次间固定其他宏观参数如脉冲偏压的幅值、频率、占空比和沉积总时间等不变，只设置不同的Al、Cr靶弧电流配比来制备4组不同成分x的Cr1–xAlxN薄膜，具体工艺参数如表1所示。