《表2 Cr1–xAlxN薄膜的表面化学成分》

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《电弧离子镀Cr_(1–x)Al_xN硬质薄膜的成分、结构与性能》

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图3为四组Cr1–xAlxN薄膜都经过600 s Ar+刻蚀去除表面吸附氧的影响后的XPS全谱图，采用非定型C1s峰位（284.6 eV）对光电子能谱结合能进行校正。刻蚀600 s后C1s杂峰消失，O1s峰几乎可以忽略。由图可见，随着Al靶相对弧流升高，N1s的峰强度保持一致，Al、Cr元素对应的峰强分别呈明显的升高和降低的趋势。为了准确计算薄膜表面化学成分，利用各元素的高分辨XPS图谱及对应的峰面积计算原子相对百分含量（设备的标准灵敏度因子分别为N:0.477，O:0.78，Cr:2.427，Al:0.193），结果如表2所示。