《表9 不同工作投入水平下LMX的中介效应值》

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《领导积极内隐追随对员工创造力的影响机制研究》

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关于LMX被调节的中介作用检验，本研究使用温忠麟和叶宝娟（2014）的层次检验流程，该方法将比依次检验、区间检验和中介效应差异检验获得更多的信息。由于调节变量仅调节中介效应路径的后半路径，故构建中介变量LMX与领导积极内隐追随、工作投入的模型，回归结果见表8。基于层次检验流程，由于模型9和模型10中领导积极内隐追随的回归系数（β高=0.184，p<0.01；β低=0.380，p<0.01）显著，模型7和模型8中LMX与工作投入的交互项回归系数（β高=0.178，p<0.01；β低=-0.565，p<0.01）显著，且两者乘积95%置信区间分别为[0.058，0.296]和[-0.616，-0.515]均不包含0，故针对不同员工群体，LMX均会受到工作投入的调节，假设H3、假设H3-1和假设H3-2成立。据此，报告不同员工群体下LMX的中介效应值，其中高质量LMX的中介效应为0.184×（0.642+0.178V），低质量LMX的中介效应为0.380×（0.160-0.565V）。最后，能够得出不同员工群体中，在工作投入的均值以及均值上下一个标准差处的中介效应值，见表9。同样可以看出，对圈内追随者群体而言，高工作投入下，LMX的中介效应值为0.174，且Bootstrap95%置信区间为[0.087，0.303]，但在低工作投入下LMX的中介效应并不显著，故工作投入越高，高质量LMX对圈内追随者创造力的影响越显著；对圈外员工群体而言，不同工作投入水平下，LMX的中介效应值分别为1.732和-1.325，且Bootstrap 95%置信区间分别为[1.398，2.138]和[-1.625，-1.079]，故随着工作投入的提高，低质量LMX对圈外员工创造力的影响将减弱。