《表4 高管背景与研发投入》

《表4 高管背景与研发投入》   提示:宽带有限、当前游客访问压缩模式
本系列图表出处文件名:随高清版一同展现
《高管背景、制度环境与研发投入——基于战略性新兴产业民营上市公司的视角》


  1. 获取 高清版本忘记账户?点击这里登录
  1. 下载图表忘记账户?点击这里登录
注:括号内的数值均为t检验值;***、**、*分别表示在1%、5%和10%水平显著(下表同)。

表6是高管技术背景、制度环境与研发投入的回归结果。模型(1)—模型(3)中,高管技术背景的系数均显著为正,制度环境的系数也均为正。高管技术背景和市场化进程的交互项系数为负,与法律环境和金融发展水平的交互项系数显著为负,说明高管技术背景与制度环境对研发投入之间存在替代关系,市场化进程的提高可以改善市场资源的配置,法律环境的改善可以增强对知识产权的保护,从而激发企业的研发动力,而金融发展水平的提高可以缓解民营上市公司的融资约束,促进企业研发的投入,由此,假设H3c得到证实。