《表3 不同刻蚀时间下电池片效率对比表》

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《单晶硅片KOH碱刻蚀工艺研究》

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随着刻蚀时间的增加，硅片的刻蚀量逐渐增加，塔基底座的尺寸也逐步增大。通常在电池生产中，要求塔基的尺寸为20μm±5μm，要求保证一定的刻蚀量，从而达到清洗效果。同时，刻蚀量还不能过高，过高的刻蚀量会导致硅片变薄，后续工艺中碎片率增大，降低生产良率。不同刻蚀时间下电池片效率对比如表3所示。