《表1 不同刻蚀时间下小球直径及光栅上下占空比》
表1为小球直径与刻蚀时间的关系。通过对实验数据进行分析,发现实验数据可以很好地与H.Chiseki等人[13]提出的模型相拟合(D0为小球的初始直径;t为指刻蚀时间,k为由工艺参数所决定的常量;D为经过t时间刻蚀后形成的小球直径)。图8为不同刻蚀时间下小球直径的变化及理想的拟合曲线,当取k=11时,理想曲线与实验数据有很好的拟合效果。
图表编号 | XD0058100 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.01.15 |
作者 | 孙伟业、邓军、何磊磊、杜欣钊 |
绘制单位 | 北京工业大学信息学部光电子技术教育部重点实验室、北京工业大学信息学部光电子技术教育部重点实验室、北京工业大学信息学部光电子技术教育部重点实验室、北京工业大学信息学部光电子技术教育部重点实验室 |
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