《表2 不同刻蚀时间下刻蚀深度的变化》
表2为相同半径小球掩膜时不同刻蚀时间下GaAs衬底的刻蚀深度。图9为相应刻蚀时间与刻蚀深度的关系曲线。由曲线可得刻蚀深度与刻蚀时间基本呈线性关系,通过调节刻蚀时间,可以很好地控制光栅的高度。
图表编号 | XD0058000 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2020.01.15 |
作者 | 孙伟业、邓军、何磊磊、杜欣钊 |
绘制单位 | 北京工业大学信息学部光电子技术教育部重点实验室、北京工业大学信息学部光电子技术教育部重点实验室、北京工业大学信息学部光电子技术教育部重点实验室、北京工业大学信息学部光电子技术教育部重点实验室 |
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