《表1 原始测试数据:高压大功率FRD用硅外延片厚度测量方法》
如图9所示,选取硅片中心位置测试硅片外延层厚度,连续10次测试计算平均值(avg),并同步计算标准偏差(std),以评估稳定性[9]。原始测试数据如表1所示。
图表编号 | XD00116396400 严禁用于非法目的 |
---|---|
绘制时间 | 2019.12.20 |
作者 | 潘文宾、黄宇程、王银海、杨帆 |
绘制单位 | 南京国盛电子有限公司、南京国盛电子有限公司、南京国盛电子有限公司、南京国盛电子有限公司 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |
如图9所示,选取硅片中心位置测试硅片外延层厚度,连续10次测试计算平均值(avg),并同步计算标准偏差(std),以评估稳定性[9]。原始测试数据如表1所示。
图表编号 | XD00116396400 严禁用于非法目的 |
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绘制时间 | 2019.12.20 |
作者 | 潘文宾、黄宇程、王银海、杨帆 |
绘制单位 | 南京国盛电子有限公司、南京国盛电子有限公司、南京国盛电子有限公司、南京国盛电子有限公司 |
更多格式 | 高清、无水印(增值服务) |