《表1 不同Ag靶功率下Ti Si N-Ag薄膜中各元素的含量》

  提示：宽带有限、当前游客访问压缩模式

本系列图表出处文件名：随高清版一同展现

《TiSiN-Ag磁控溅射薄膜的微结构和性能》

1. 获取 高清版本忘记账户？点击这里登录

1. 下载图表忘记账户？点击这里登录

由图4可知:随着Ag原子分数的增加，Ti N的晶粒尺寸先增加后减小，Ti Si N-Ag薄膜由Ti N相、非晶Si3N4相和单质Ag相组成，Si原子形成非晶Si3N4相；随着Ag含量的增加，Si/（Ti+Si）逐渐减小，相比于Ti Si N薄膜，Ti Si N-Ag薄膜中的非晶Si3N4相逐渐减少，非晶相阻碍Ti N晶粒的生长[11]，非晶Si3N4相减少，对Ti N晶粒长大的阻碍作用减弱，Ti N的晶粒继续减小，在Ag元素加入后，单质Ag相呈弥散分布[12]，可能位于Ti N的晶界处或嵌入非晶Si3N4相中，非晶Si3N4相包裹Ag单质相和Ti N相，所以Ag颗粒较小，表现为c-Ag衍射峰强度较小、宽化；当Ag原子分数大于8.21%时，Ti N晶粒持续减小，可能是Ti N晶界处的单质Ag相增多，阻碍了Ti N晶粒的生长；当Ag原子分数从0增至1.15%时，Si/（Ti+Si）从18.26%下降至15.46%，Ag含量较少，可能只存在于非晶Si3N4相中，没有在Ti N晶界处形成，没有阻碍Ti N晶粒生长，同时非晶Si3N4相减少，导致Ti N晶粒长大。