《半导体工艺化学》

第一章 相图及其应用1

§1-1 相律1

§1-2 单组分二相物系的相平衡4

§1-3 二组分物系的相平衡10

§1-4 组分凝聚物系的各类相图15

§1-5 相图在半导体生产中的应用26

复习题32

第二章 半导体技术中的有机物和高聚物35

§2-1 有机化合物概论35

§2-2 半导体生产中常用的有机物41

§2-3 高聚物概论51

§2-4 半导体生产中常用的高聚物58

复习题74

第三章 半导体技术中的高纯水76

§3-1 半导体工程用水76

§3-2 离子交换法制备高纯水79

§3-3 电渗析法制备高纯水89

§3-4 其它方法制备高纯水93

§3-5 高纯水的纯度测量96

复习题101

第四章 半导体技术中的化学清洗103

§4-1 半导体晶片表面沾污的杂质103

§4-2 半导体晶片上有机杂质的清除105

§4-3 络合物简介111

§4-4 半导体晶片上无机杂质的清除116

§4-5 高纯水在清洗中的作用124

§4-6 超声波在清洗中的作用125

§4-7 其它清洗方法126

复习题127

第五章 表面化学及其应用128

§5-1 表面能及表面张力128

§5-2 固体表面的吸附作用135

§5-3 吸附在半导体工艺中的应用147

§5-4 溶液的表面吸附作用151

§5-5 裘面活性物质153

复习题164

第六章 半导体技术中的电化学166

§6-1 电化学概论166

§6-2 几种电极169

§6-3 半导体技术中的腐蚀173

§6-4 半导体材料的腐蚀177

§6-5 等离子体辅助腐蚀190

§6-6 金属的腐蚀193

§6-7 影响化学腐蚀的因素200

§6-8 电镀、电沉积、阳极氧化203

复习题206

第七章 光化学及其应用206

§7-1 光化学基本概念和定律206

§7-2 光化反应及速度方程式214

§7-3 照相工艺中的光化学216

§7-4 光刻工艺中的光化学231

§7-5 半导体工艺中的激光化学240

复习题245

参考文献245