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第一章 晶体结构1

第一节 晶体学基础1

第二节 晶面、晶向9

第三节 锗硅的晶体结构14

第二章 光化学与光刻、制版、照相工艺25

第一节 光化学基本概念和定律25

第二节 光刻工艺的化学原理31

第三节 制版工艺的化学原理55

第四节 超微粒干板照像冲洗的化学原理68

第三章 彩色版等离子体刻蚀、表面钝化工艺及其化学原理81

第一节 彩色版——氧化铁选择透明掩膜版制备的化学原理81

第二节 等离子体腐蚀、去胶工艺化学原理94

第三节 表面钝化工艺107

第四章 合金和相图132

第一节 合金132

第二节 合金在半导体器件中的应用134

第三节 相图136

第四节 相图的应用147

第五章 表面现象151

第一节 表面能与表面张力151

第二节 表面活性物质155

第三节 表面吸附现象160

第四节 表面现象的一些实际应用169

第六章 纯水的制备174

第一节 高纯水与半导体工艺174

第二节 离子交换法纯化水184

主要参考文献193

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